腔體材質：不銹鋼表面處理

供電電源：AC220V

工作電流：整機工作電流不大于1.2A(不含真空泵)

電源功率：0-300/0-600W可調

頻率：13.56MHz（偏移量小于0.2KHz）頻率偏移量：小于0.2KHz

特性阻抗：50歐姆，自動匹配

真空度：1pa-30Pa

氣體路數(shù)：雙路氣體輸入

氣體流量：浮子流量計0-160ml

過程控制：PLC人機界面自動與手動方式

清洗時間：1-99999秒鐘可調

功率大小：10%-100%可調

內腔尺寸：L×W×H  370×320×130mm （15L容量）

外形尺寸：650長x600寬x高750mm（臺式）    

重量：95Kg

真空泵：飛越泵VRD-16 (抽速4.4L/S)含油霧過濾器或排煙管

真空室溫度：小于65°C

冷卻方式：強制風冷

負壓調節(jié)：極限真空調節(jié)閥

什么是等離子體？物質有四種的表現(xiàn)形式：固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)、等離子態(tài)
? 我們可以簡單地從水分子的情況回顧一下物質的四種狀態(tài)。在絕對零度（-273℃）水和所有物質都是固態(tài)，原子停止振動。隨著提供原子能亮（加熱），原子開始再次振動，并且分子恢復動力。溫度一直上升到0℃，H2O分子保持在固態(tài)（冰）。更多能量的施加引起固態(tài)中H2O分子振動的區(qū)域發(fā)生轉變，H2O從固態(tài)變成液態(tài)（水）。給液體增加能量不斷地激活分子直到水再一次改變狀態(tài)，這一次從液態(tài)變?yōu)闅鈶B(tài)（蒸汽）。
? 能量的進一步施加，致使分子太活躍不能保持它的分子完整性?；谶@一點H2O將分裂為它的組成部分（氫和氧原子），同時釋放出高能自由電子。由于電子和離子重新組合釋放出光子，一個可見的放電發(fā)光區(qū)被激發(fā)，物質的這種狀態(tài)的亞原子狀態(tài)被稱為“等離子體”。
? 隨著頻率或微博源的停止施加，各種亞原子態(tài)的離子重新合成更穩(wěn)定的分子形式。
? 發(fā)生在我們身邊的等離子體有恒星、氖發(fā)光、極光等等。


為什么用等離子體清洗？
直接把高能等離子體流施加到被清洗表面以達到等離子體清洗的目的。例如：用氧氣等離子體可以使有機物沉積被氧化掉；用惰性的氬氣等離子體可以使顆粒污染被機械地沖洗掉，等等。寬范圍的選擇氣體種類，可以滿足很多等離子體清洗的要求。
? 頻射場區(qū)中離子的物理加速促進了清洗工藝。事實上，等離子體的強度直接決定于：
a） 反應器的幾何尺寸
b） 產生等離子體的頻射電源
c） 氣體的流速
d） 真空泵的抽速
e） 真空度
f） 使用的反應物和稀釋氣體


等離子體清洗設備的類型
形成等離子體的基本因素是低于大氣壓狀態(tài)的氣體放電。反應室的尺寸有各種各樣的形式，電極的結構取決于樣品托盤和常規(guī)的反應室結構。
三種流行的設計是：
（1） 感應耦合“桶式”反應室
（2） 電容耦合“平行平板”反應室
（3） “順流”反應室
這三種類型的反應室都可以用頻射和微博電源產生等離子體。
感應耦合“桶式”反應室
一種早期設計成“桶式”反應室的等離子體清洗機，頻射能量在反應室外壁和內部電中性有孔的法拉第籠之間流動。等離子體在桶的內壁和法拉第籠外壁之間產生。
這個有孔的籠是電中性的（不接地），它僅僅形成一個機械的屏障阻擋等離子體進入工作區(qū)，容許一些亞原子種類的混合物進入負載區(qū)。這樣從電源方向看起來，有孔的法拉第鞘和工作區(qū)像是一個感應電容。
? 因此，電源的匹配網絡必須予先調節(jié)好，才能符合每一個不同的工作負載。獲得均勻清洗效果。還有，由于氣體的原子必須通過從內鞘到工作負載這一段廠距離，這種方法的清洗效率非常低。并且工作區(qū)中樣品的外邊得到更多的處理，而樣品中間得到的少。
? 由于以上的原因，工業(yè)已經很少使用這種等離子體清洗技術。
電容耦合平行平板反應室
? ?在這種方法中，樣品杯直接地放置在一個電極上。平行平板的結構產生了一個均勻的等離子體覆蓋樣品負載，樣品收到磁、RF、電子、x射線、光子的轟擊。工作區(qū)會產生熱能。
平行平板榮幸順流反應室
? 這種設計師學習了上面所描述的技術產生的結果。工程師設想一個理想的、適應廣泛的等離子體清洗機都應該包括什么內容。他們理想的狀態(tài)如下：
1. 應該有一個均勻的等離子體區(qū)，使樣品的邊緣和中心具有相同的清洗均勻性。
2. 不管負載的輕重，系統(tǒng)電源的設定應該是不受約束的。設定值不管放在一個樣品或放慢樣品都應該是一個值。
3. 設備應該具有盡可能的生產能力。
4. 在等離子體工藝期間，即使是大多數(shù)敏感器件也不發(fā)生電子損傷。
以上看起來是不可能達到的目標，因為這些理想的狀態(tài)好像有一些沖突。經過一些工程師的努力，“順流等離子體”的概念被創(chuàng)造出來，清洗樣品放置在容性負載的外面，這樣解決了上面的第二個問題。
?平行平板的結構（替代桶式）提供了一個在所有樣品便面均勻的等離子體，并且難呢過提供最大的樣品裝載能力，因此滿足（1）和（3）的要求
下電極接地（電中性）確保有所的高能電子不能接觸到樣品的表面，第（4）點也被照顧到了。

這種等離子體清洗機是現(xiàn)在流行的，可以滿足比較苛刻的清洗工藝要求。